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      株洲紅亞電熱設備有限公司

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      氧化亞硅氣相沉積包覆爐
      氧化亞硅氣相沉積包覆爐
      主要特點 :
      氧化亞硅真空蒸餾爐 設備用途: 氧化亞硅氣相沉積包覆爐,是利用真空蒸鍍法將粉碎后的所得元素摻雜金屬硅與二氧化硅通過真空蒸鍍工藝,制得元素摻雜氧化亞硅。 設備特點: 1 、本公司自行設計生產的氧化亞硅氣相沉積包覆爐有兩種加熱方式(感應加熱、電阻加熱和中
      使用行業 :
      • 產品詳情
      • 產品規格
      • 使用步驟
      • 氧化亞硅真空蒸餾爐

         

        設備用途:氧化亞硅氣相沉積包覆爐,是利用真空蒸鍍法將粉碎后的所得元素摻雜金屬硅與二氧化硅通過真空蒸鍍工藝,制得元素摻雜氧化亞硅。

        設備特點:

        1、本公司自行設計生產的氧化亞硅氣相沉積包覆爐有兩種加熱方式(感應加熱、電阻加熱和中頻感應加熱),內部各溫區溫差在±5℃以內,能有效保證物料在內腔內的反應溫度均勻。加熱端溫度1400℃,收集區溫度900℃。能充分滿足客戶用于氧化亞硅等可氣相沉積材料的燒結工藝。

        2、設備采用熱電偶接觸式測溫控溫精度高,高溫真空度好,物料收集率高,具備物料烘干、燒結、收集于一體等特點,其物料反應充分、收集率高等特點。

        3、真空采用三級真空機組,油擴散泵+羅茨泵+機械泵+真空閥門,以及我公司自行生產設計的真空過濾系統組成,具有真空度高,設備能在高溫、高真空環境中長期使用。

         

         

         

        設備常用尺寸規格: 

         

        型號

        高溫區體積

        收集區容積

        設計功率

        極限真空度

        加熱方式

        HYZF-5080

        150L

        50L

        80KW

        6.67*10-3Pa

        中頻感應加熱

        HYZF-50120

        230L

        80L

        160KW

        6.67*10-3Pa

        中頻感應加熱

        HYZF-7080

        300L

        100L

        200KW

        6.67*10-3Pa

        電阻加熱

        HYZF-8080200

        1200L

        560L

        500KW

        6.67*10-3Pa

        電阻加熱

        可定制其它規格


         


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